一、概述 

     我公司生产的各种反渗透、EDI设备广泛应用于电子工业如：单晶磕半导体、光电子器件、光盘、印刷电路板、镀膜玻璃、导电玻璃、液晶显示器、集成电路块、显像管、玻亮、电镀、计算机硬盘等制造工艺用纯水的制备。生产出符合电子生产标准的水,控制部份采用进口PLC控制，可实现自动起停，加药，及冲洗，自动监测各种运行参数，水处理系统实现了全自动控制，无需专人管理。

 

二、典型工艺流程

 

1、源水箱→源水泵→机械过滤器→活性炭过滤器→软水器（根据水的硬度来选用）→精密过滤器→高压泵→反渗透装置（根据源水水质可设单级或双级）→中间水箱→混合离子交换器（单级或双级）→终端过滤器→产品水箱→用水点

 

2、源水箱→源水泵→机械过滤器→活性炭过滤器→软水器（根据水的硬度来选用）→精密过滤器→高压泵→反渗透装置（根据源水水质可设单级或双级）→中间水箱→EDI→产品水箱→用水点

实际工作中根据源水质和出水要求适当取舍或添加，确定工艺！

 

 

三、适用范围: 

     半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

     LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管

     超纯材料和超纯化学试剂           

     光导纤维、光盘